Ion Implantation: Effect on Flux and Rejection Properties of NF Membranes

• Autores: Kimberly Jones, Joshua Olufemi Abitoye, Parna Mukherjee
• Localización: Environmental science & technology, ISSN 0013-936X, Nº. 17, 2005, págs. 6487-6493
• Idioma: inglés
• DOI: 10.1021/es050102v
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