Apparent Decreases in Colloid Deposition Rate Coefficients with Distance of Transport under Unfavorable Deposition Conditions: A General Phenomenon

• Autores: Timothy D. Scheibe, Xiqing Li, William P. Johnson
• Localización: Environmental science & technology, ISSN 0013-936X, Nº. 21, 2004, págs. 5616-5625
• Idioma: inglés
• DOI: 10.1021/es049154v
• Texto completo no disponible (Saber más ...)