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Apparent Decreases in Colloid Deposition Rate Coefficients with Distance of Transport under Unfavorable Deposition Conditions: A General Phenomenon
Autores:
Timothy D. Scheibe, Xiqing Li, William P. Johnson
Localización:
Environmental science & technology
,
ISSN
0013-936X,
Nº. 21, 2004
,
págs.
5616-5625
Idioma:
inglés
DOI
:
10.1021/es049154v
Texto completo no disponible
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